罗红霉素软膏制备，罗红霉素软膏剂高速胶体磨

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上海依肯机械胶体磨采用三层夹套全程控温设计，满足GPM车间无菌操作，在线SIP清洗，拆卸简单，一建按钮启动作业。


简介：
罗红霉素150重量份，油性基质100～150重量份；按重量比加入到配液罐中，混合均匀，过胶体磨；然后将罗红霉素和油性基质的混合物冷冻至-25～-40℃，降温速度为2～15℃/min；抽真空混合均匀，过高速胶体磨，胶体磨又分为3、6、9等级别，越大级别代表操作性更好。

国产胶体磨：
目前国内市场上大多数的胶体磨厂家生产出来的胶体磨转速只能达到3000rpm左右，当然我所说的都是指工业化的胶体磨机。对于实验室小型胶体磨机，由于电机（220V），轴等因素转速可达30000rpm左右，但是这种实验室胶体磨无法对应放大到生产中，所以在这里不做重点讲诉。


上海依肯胶体磨：
当用我们的设备好处是什么？效果好（研磨效果、均质效果、分散效果、乳化效果……），速度快，效率高。每一台设备都具有多功能改装，根据不同的要求更换不同的模块。还有什么？？？那就是能耗低，据用过依肯的设备客户反应，就电费就能省下不少。如何去选择一台合适的设备，一定会做一个明智的选择！

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罗红霉素膏剂胶体磨优点：
1 CMS2000系列作为一个用于混合分散粉碎工艺的设备,其具有连续式性操作,因此也被称作连续式超高速粉碎机,能够更好满足大批量连续化生产作业要求.
1分散乳化粉碎效率高:批次乳化机在进行乳化前往往需要预搅拌,在其基础上才能实现较好的分散乳化混合效果.因此所需要时间更多,产量更小.适用于不连续生产或者产量较小的生产.而连续式胶体磨机可以直接进行投料,更短时间能够实现混合分散的颗粒经的要求.产量大效率高,适用于连续式生产,产量更大的情况.
2分散效粉碎果好：其他粉碎设备在罐体内，物料与粉碎头较松散，工作时依靠强大的吸力使物料进入分散头中，不能实现足够小的颗粒经要求。而连续式乳化机由于乳化腔体内部设计足够小，胶体磨头与物料紧密接触，剪切充分，同时胶体磨腔体设计成多层转定子咬合结构，优化粗齿结构，可以满足混合乳化粉碎的颗粒经分布较窄，效率更高
3 技术功能指标更高：CMS2000系列管线胶体磨机比较在相同的马达情况下，转速有明显优势，CMS2000转速可以达到14000RPM，可以在更短的恶时间内处理更多符合要求的物料，能够为大批量生产的企业实现生产过程的成本降低。

IKNCMS2000/4胶体磨机可用于小试研发，以及中试验证。处理量可从2L-300L，充分满足研发的需求和中试的验证。IKN胶体磨机设备都是线性放大，小试设备和工业化设备效果一致，小试摸索的参数可直接放大到工业化生产用。
目前，许多高校以及研究院从事研发研究，都在用IKN的小试胶体磨，直接可以放在实验台上操作，简单高效。

CMS2000的线速度很高，剪切间隙非常小，这样当物料经过的时候，形成的摩擦力就比较剧烈，结果就是通常所说的湿磨。定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。在增强的流体湍流下，凹槽在每级都可以改变方向。高雷竞技百科 的表面抛光和结构材料，可以满足不同行业的多种要求。

三级错齿结构的研磨转子，配合精密的定子腔。此款高速胶体磨比普通的卧式胶体磨的速度达到3倍以上,大的转速可以达到14000RPM。所以可以达到更好的分散湿磨效果。

高速胶体磨	流量*	输出	线速度	功率	入口/出口连接
类型	l/h	rpm	m/s	kW
CMS 2000/4	700	14000	40	4	DN25/DN15
CMS 2000/5	4,000	10,500	40	11	DN40/DN32
CMS 2000/10	10,000	7,300	40	22	DN50/DN50
CMS 2000/20	30,000	4,900	40	45	DN80/DN65
CMS 2000/30	60,000	2,850	40	75	DN150/DN125
CMS 2000/50	100,000	2,000	40	160	DN200/DN150
*流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。

1 表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2 处理量取决于物料的粘度，稠度和终产品的要求。

3 如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4 本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准。

5 本系列机型具有短程送料能力，无自吸功能，须选用高位进料；物料粘度或固含量高导致不能正常进料和输送时，须选用压力或输送泵进料或送料，输送泵的压力和流量与被选机型相匹配。

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